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SiC边界层陶瓷电容器的研制
引用本文:秦丹丹,乔建房,邵刚,王海龙,许红亮,卢红霞,张锐.SiC边界层陶瓷电容器的研制[J].稀有金属材料与工程,2007,36(A01):442-444.
作者姓名:秦丹丹  乔建房  邵刚  王海龙  许红亮  卢红霞  张锐
作者单位:郑州大学,河南郑州450002
摘    要:选用α—SiC(4-10μm)作为主晶相,SiO2-CuO作为晶界绝缘层,以两步包裹法制备SiC—SiO2-CuO复合颗粒。干压成型后,在不同温度下常压烧结制得边界层电容器。采用SEM、XRD及密度测试等手段对烧结品进行性能分析。结果发现:1300℃为最佳烧结温度,该温度下最高介电常数(ε)为713100;电容器具有正的介温系数,介电常数在50℃附近急剧增大,而介质损耗(tanδ)在该温度点急剧降低,60℃之后两者均趋于稳定,这可能与界面处产生的空间电荷极化有关;电容器具有强烈的频率色散效应。

关 键 词:SiC  边界层电容器  介电常数  介质损耗
文章编号:1002-185X(2007)S1-0442-03
修稿时间:2007-02-16

Study on SiC-Based Grain Boundary Barrier Layer Capacitor
Qin Dandan, Qiao Jianfang, Shao Gang, Wang Hailong, Xu Hongliang, Lu Hongxia, Zhang Rui.Study on SiC-Based Grain Boundary Barrier Layer Capacitor[J].Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(A01):442-444.
Authors:Qin Dandan  Qiao Jianfang  Shao Gang  Wang Hailong  Xu Hongliang  Lu Hongxia  Zhang Rui
Affiliation:School of Materials Science and Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou 450002, China
Abstract:
Keywords:SiC  GBBLC  dielectric constant  dielectric loss
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