首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

空气隙Cu互连结构热应力史研究
引用本文:尹匀丰,汪辉. 空气隙Cu互连结构热应力史研究[J]. 半导体技术, 2010, 35(4): 352-356,377. DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.04.014
作者姓名:尹匀丰  汪辉
作者单位:上海交通大学,微电子学院,上海200240;上海交通大学,微电子学院,上海200240
基金项目:国家自然科学基金资助项目(NSFC60606015)
摘    要:将空气引入Cu导线间形成空气隙,可有效降低等效介电常数K_(eff),但同时也使互连结构的机械稳定性面临着挑战。利用ANSYS进行了有限元热分析,研究了制备空气隙Cu互连结构的两种主流工艺过程,即CVD沉积法和热分解牺牲层法,模拟了Cu导线上的热应力变化趋势,并比较了两者的优劣,最终发现互连结构经过一系列热应力的循环作用后,各种材料在不同程度上都有较大的形变,这将影响结构的机械稳定性,甚至引起破坏。所以,需要进一步改善结构设计和使用理想电介质。

关 键 词:铜互连  空气隙  热应力史  低k介质  机械稳定性

Study on Thermal Stress History in Air-Gap/Cu Interconnect
Yin Yunfeng,Wang Hui. Study on Thermal Stress History in Air-Gap/Cu Interconnect[J]. Semiconductor Technology, 2010, 35(4): 352-356,377. DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.04.014
Authors:Yin Yunfeng  Wang Hui
Affiliation:School of Microelectronics;Shanghai Jiao Tong University;Shanghai 200240;China
Abstract:The introduction of air-gaps between copper wires can effectively reduce the equivalent dielectric constant K_(eff),but the mechanical stability of interconnect structure is also facing challenges. ANSYS finite element thermal analysis is used,through studying two kinds of mainstream processes for manufacturing the air-gap/Cu interconnect structure,CVD deposition method and thermal decomposition of the sacrificial layer method,to simulate the thermal stress history on the copper wire,and the pros and cons a...
Keywords:Cu interconnect  air-gap  thermal stress history  low-k dielectrics  mechanical stability  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号