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ZnO陶瓷薄膜的制备及其低压压敏性质
引用本文:黄焱球,刘梅冬,李楚容,曾亦可,刘少波,夏冬林.ZnO陶瓷薄膜的制备及其低压压敏性质[J].压电与声光,2001,23(5):384-386.
作者姓名:黄焱球  刘梅冬  李楚容  曾亦可  刘少波  夏冬林
作者单位:华中科技大学电子科学与技术系
摘    要:利用新型Sol-Gel法在镀有Au底电极的单晶硅片上制备Bi2O3、Sb2O3掺杂的ZnO陶瓷薄膜,先驱体溶液由Bi2O3、Sb2O3掺杂的ZnO纳米粉体均匀分散于含有Zn(CH3COO)2、Bi(NO3)3及Sb2O3的溶胶中制成,薄膜由甩胶法制备,并由400℃预烧、750℃退火。制得的陶瓷薄膜ZnO结晶良好,并存在β-Bi2O3、Zn2Sb3Bi3O14及Zn7Sb2O12相,表现出良好的低压压敏性质,厚约为3μm为ZnO陶瓷薄膜非线性系数α为6.2、压敏电压为5V,漏电流为8μA。

关 键 词:陶瓷薄膜  低压压敏电阻  性能特征  氧化锌
文章编号:1004-2474(2001)05-0384-03
修稿时间:2001年3月27日

Preparation of ZnO Ceramic Thin Films for Low-voltage Varistors
HUANG Yan qiu,LIU Mei dong,LI Chu rong,ZENG Yi ke,LIU Shao bo,XIA Dong lin.Preparation of ZnO Ceramic Thin Films for Low-voltage Varistors[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2001,23(5):384-386.
Authors:HUANG Yan qiu  LIU Mei dong  LI Chu rong  ZENG Yi ke  LIU Shao bo  XIA Dong lin
Abstract:
Keywords:(Bi  Sb)  doped ZnO thin film  low  voltage varistor  novel Sol  Ggel process  properties
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