| 聚硅烷—高分辨的光致抗蚀剂 |
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| 引用本文： | 李高全,陈德本.聚硅烷—高分辨的光致抗蚀剂[J].高分子材料科学与工程,1993,9(3):3-6. |
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| 作者姓名： | 李高全 陈德本 |
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| 作者单位： | 四川大学化学系，四川大学化学系 成都 610064，成都 610064 |
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| 摘 要： | 概述了光致抗蚀剂在微电子工业中的作用,着重介绍了聚硅烷光致抗蚀剂的特点,以及聚硅烷紫外、深紫外、X射线、电子未等抗蚀剂的发展状况
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| 关 键 词： | 聚硅烷 高分辨率 光致抗蚀剂 |
POLYSILANES--HIGH-RESOLUTION PHOTORESISTS |
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| Li Gaoquan and Cheng Deben.POLYSILANES--HIGH-RESOLUTION PHOTORESISTS[J].Polymer Materials Science & Engineering,1993,9(3):3-6. |
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| Authors: | Li Gaoquan and Cheng Deben |
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| Abstract: | The importance of photoresists in microelectronic industry is described in this review,emphasizing the characteristics of polysilane photoresists and the developing situation of ultra violet, deep ultraviolet, X-ray,electron-beam polysilane photoresists etc. |
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| Keywords: | polysilanes high-resolution photoresists micro-processing technology contrast enhancement layer (CEL) |
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