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晶片键合界面应力分布的理论分析
作者姓名:周震  孔熹峻  黄永清  任晓敏
作者单位:北京邮电大学 北京100876 (周震,孔熹峻,黄永清),北京邮电大学 北京100876(任晓敏)
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (批准号 :90 2 0 10 3 5,90 10 40 0 3 )~~
摘    要:根据双金属带的热应力分布理论,推导了晶片键合以及薄膜键合的界面应力分布公式.对影响晶片键合的剪切应力、正应力以及剥离应力的分布特性进行了讨论

关 键 词:键合   剪应力   正应力   剥离应力
文章编号:0253-4177(2003)11-1176-04
修稿时间:2002-12-13
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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