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超薄铝膜的制备与透光率的研究
引用本文:付光宗,杨丰帆,杨小红,廖克俊,刘高彬. 超薄铝膜的制备与透光率的研究[J]. 中国机械工程, 2005, 16(Z1): 352-354
作者姓名:付光宗  杨丰帆  杨小红  廖克俊  刘高彬
作者单位:1. 重庆大学,重庆,400044
2. 重庆大学,重庆,400044;重庆师范大学,重庆,400047
摘    要:当铝(Al)膜的厚度在100nm时,可以作为一种光学薄膜使用.用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用.利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝膜,利用双光束分光光度计研究了其光学性质,测试了超薄铝膜的制备条件,如工作压强、靶基距、溅射时间等对薄膜的光学性质的影响.得到了工作压强、靶基距及溅射功率与薄膜的光学性质之间的关系.

关 键 词:超薄铝膜  透射率  光学性质  直流磁控溅射
文章编号:1004-132X(2005)S1-0352-03
修稿时间:2005-05-05

Study on Transmittance Property on Ultrathin Aluminum Film
Fu Guangzong,Yang Fengfan,Yang Xiaohong,Liao Kejun,Liu Gaobin. Study on Transmittance Property on Ultrathin Aluminum Film[J]. China Mechanical Engineering, 2005, 16(Z1): 352-354
Authors:Fu Guangzong  Yang Fengfan  Yang Xiaohong  Liao Kejun  Liu Gaobin
Abstract:
Keywords:
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