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| 接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析 | |
| 作者姓名： | 付永启 朱应时 |
| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所，应用光学国家重点实验室 |
| 摘 要： | 用近场菲涅耳理论，分析了接近式曝光法刻制光栅及码盘时，刻划间隙与刻线质量之间的关系；并利用刻线相对对比度的概念给出了确定刻划间歇时应遵循的规律。为实际光刻时的选择最佳刻划间隙提供了一条可靠的依据。 |
| 关 键 词： | 接近式 光刻 刻划间歇 刻线质量 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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