| 衬底同步加热溅射BST薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 张龙,林立强 朱健 卓敏.衬底同步加热溅射BST薄膜的研究[J].传感技术学报,2006,19(5):1904-1906. |
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| 作者姓名： | 张龙 林立强 朱健 卓敏 |
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| 作者单位： | 南京电子器件研究所,南京,210016 |
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| 摘 要： | 介绍了一种衬底同步加热射频磁控溅射制备BST(BaxSr1-xTiO3)薄膜的新方法,讨论了BST薄膜的晶化效果对介电常数的影响,分析了薄膜的居里温度和εr-V铁电性能.XRD测试结果表明制备的BST薄膜具有完整的钙钛矿晶体结构,相对介电常数超过150,介质击穿强度大于1.3 MV/cm.使用这种方法不需要专门的退火工艺,就可以制备晶体结构完整的高介电常数BST薄膜.
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| 关 键 词： | 同步衬底加热 射频磁控溅射 钛酸锶钡薄膜 居里温度 |
| 文章编号： | 1004-1699(2006)05-1904-04 |
| 修稿时间： | 2006年7月1日 |
Sputtering BST films with substrate synchronous heating |
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| Zhang Long,Lin Liqiang,Zhu Jian,Zhuo Min.Sputtering BST films with substrate synchronous heating[J].Journal of Transduction Technology,2006,19(5):1904-1906. |
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| Authors: | Zhang Long Lin Liqiang Zhu Jian Zhuo Min |
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| Affiliation: | Nanjing Electronic Devices Institute, Nanjing 210016 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | substrate synchronous heat RF magnetoelectric sputtering BST film Curie temperature |
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