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GaAs/Al_xGa_(1-x)As多量子阱掩埋条形激光器
引用本文:李世祖,张敬明,杨国文,徐遵图,何晓曦,徐俊英,肖建伟,陈良惠.GaAs/Al_xGa_(1-x)As多量子阱掩埋条形激光器[J].半导体学报,1996,17(4):275-278.
作者姓名:李世祖  张敬明  杨国文  徐遵图  何晓曦  徐俊英  肖建伟  陈良惠
作者单位:中国科学院半导体研究所
摘    要:利用MBE生长的GaAs/AlxGa1-xAs折射率渐变-分别限制-多量子阱材料(GRIN-SCH-MQW),经液相外延二次掩埋生长,制备了阈值最低达2.5mA(腔面未镀膜),光功率室温连续输出可达15mW/面的半导体激光器.经腔面镀膜后,器件已稳定工作4500多小时.

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