| 射频磁控溅射制备Nb—Zr薄膜 |
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| 引用本文： | 刘延辉,鲁菲,周细应.射频磁控溅射制备Nb—Zr薄膜[J].热加工工艺,2008,37(16). |
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| 作者姓名： | 刘延辉 鲁菲 周细应 |
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| 作者单位： | 上海工程技术大学,材料工程学院,上海,201620 |
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| 基金项目： | 上海市教委资助项目，上海市重点学科建设项目 |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射方法,在T8钢和玻璃衬底上制备了Nb和Nb-Zr薄膜.表面和截面形态分析以及显微硬度测试结果表明,Nb薄膜在T8钢表面以岛状方式生长,Zr薄膜在Nb表面继续沉积后.在T8钢衬底中造成了连续性的孔隙;Nb薄膜的显微硬度随溅射功率和沉积厚度的增加而下降:Nb-Zr多层叠加溅射薄膜在真空扩散退火后硬度有所升高.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 薄膜 铌 工艺 |
Nb-Zr Films Prepared by Radio Frequency Magnetron Sputtering |
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| LIU Yanhui,LU Fei,ZHOU Xiying.Nb-Zr Films Prepared by Radio Frequency Magnetron Sputtering[J].Hot Working Technology,2008,37(16). |
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| Authors: | LIU Yanhui LU Fei ZHOU Xiying |
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