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Sn晶须生长的双应力区模型
引用本文:郝虎,郭福,徐广臣,史耀武.Sn晶须生长的双应力区模型[J].稀有金属材料与工程,2012(Z2):59-62.
作者姓名:郝虎  郭福  徐广臣  史耀武
作者单位:北京工业大学
基金项目:北京市教育委员会科技计划重点项目(KZ200910005004);中国博士后科学基金(20100480172)
摘    要:利用FIB(Focused Ion Beam)将发生氧化的稀土相ErSn3剖开,研究其表面Sn晶须的生长机制。结果表明:时效过程中稀土相ErSn3发生了不均匀氧化,在其内部形成了大量的"快速氧化通道"及"氧化区"。由于在Sn晶须的根部及附近同时存在两个"氧化区",且它们通过"快速氧化通道"相连。因此,提出了Sn晶须生长的"双压应力区"模型,即Sn晶须的生长需要形成两个压应力区,其根部的"低压应力区"将为Sn晶须的形成提供驱动力,而"高压应力区"将为Sn晶须的生长提供Sn原子。

关 键 词:SnAgCu钎料  稀土Er  Sn晶须  生长模型

Double Compressive Stress Zones Model for Tin Whisker Growth
Hao Hu,Guo Fu,Xu Guangchen,Shi Yaowu.Double Compressive Stress Zones Model for Tin Whisker Growth[J].Rare Metal Materials and Engineering,2012(Z2):59-62.
Authors:Hao Hu  Guo Fu  Xu Guangchen  Shi Yaowu
Affiliation:(Beijing University of Technology,Beijing 100124,China)
Abstract:
Keywords:
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