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| 开拓超高真空的世界(二)——支撑高技术的基础 | |
| 引用本文： | 姜祥祺,阳锡良,小宫宗治.开拓超高真空的世界(二)——支撑高技术的基础[J].真空与低温,1988(4). |
| 作者姓名： | 姜祥祺 阳锡良 小宫宗治 |
| 作者单位： | 复旦大学物理系(姜祥祺，阳锡良) |
| 摘 要： | 三、最惊人的发展—利用真空的镀膜工业真空镀膜的方法这里将要介绍真空蒸发、离子镀膜、溅射和化学气相沉积等种镀膜方法。对于这些专业性词汇,不少读者可能还不熟悉!本书将在本章和下一章简要介绍真空蒸发;在第五章、第六章和第九章中将分别介绍离子镀膜、溅射镀膜和真空中的化学气相沉积。请列这些专业性词汇尚不熟悉的读者暂时忍耐一下。需要说明的是这四种镀膜方法的工作原理是相互渗透的。如果按其作用进行划分,可以 |
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