| 大面积EACVD金刚石沉积设备的研究 |
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| 引用本文： | 卢文壮,左敦稳,王珉,黎向锋,宋胜利,相炳坤. 大面积EACVD金刚石沉积设备的研究[J]. 机械设计与制造, 2003, 0(6): 81-83 |
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| 作者姓名： | 卢文壮 左敦稳 王珉 黎向锋 宋胜利 相炳坤 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学,南京,210016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(No:59975045) |
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| 摘 要： | 详细介绍了EACVD法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计,设备包括机械系统和电气系统。设备的运行情况表明,该设备可以用于沉积高质量的大面积金刚石膜,沉积的金刚石厚膜直径达Φ200mm,涂层面积达(330×330)mm2,膜沉积速率为(4～20)μm/h。
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| 关 键 词： | 金刚石膜 EACVD 沉积设备 机械系统 电气系统 设计 运行 |
| 文章编号： | 1001-3997(2003)06-0081-03 |
| 修稿时间： | 2003-03-31 |
Study on EACVD equipment for large area diamond film depsition |
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| LU Wen-zhuang,ZUO Dun-wen,WANG Min,LI Xiang-feng,SONG Sheng-li,XIANG Bing-kun. Study on EACVD equipment for large area diamond film depsition[J]. Machinery Design & Manufacture, 2003, 0(6): 81-83 |
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| Authors: | LU Wen-zhuang ZUO Dun-wen WANG Min LI Xiang-feng SONG Sheng-li XIANG Bing-kun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Diamond film EACVD equipment Design Operation |
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