| 多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射 |
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| 引用本文： | 陈光华,蔡让岐,宋雪梅,贺德衍.多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射[J].半导体学报,2004,25(3):288-291. |
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| 作者姓名： | 陈光华 蔡让岐 宋雪梅 贺德衍 |
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| 作者单位： | 北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室，兰州大学物理科学与技术学院，北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室，兰州大学物理科学与技术学院 北京100022，兰州大学物理科学与技术学院，兰州730000，兰州730000，北京100022，兰州730000 |
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| 摘 要： | 研究了多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备工艺及其场电子发射特性.以多孔硅作为生长金刚石突起阵列的模板,生长出带多微尖的微晶金刚石晶粒,使场电子发射阈值下降(<1V/ μm) ,发射电流增大(>90 m A/ cm2 ) ,场发射性能稳定,并对这种场发射特性做出了理论解释.
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| 关 键 词： | 多孔硅 金刚石薄膜 场电子发射 |
| 文章编号： | 0253-4177(2004)03-0288-04 |
| 修稿时间： | 2003年3月4日 |
Preparation and Field Electron Emission of Diamond Films on Porous Silicon Substrates with MW-CVD Technique |
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| Chen Guanghua ,Cai Rangqi,Song Xuemei and He Deyan.Preparation and Field Electron Emission of Diamond Films on Porous Silicon Substrates with MW-CVD Technique[J].Chinese Journal of Semiconductors,2004,25(3):288-291. |
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| Authors: | Chen Guanghua Cai Rangqi Song Xuemei and He Deyan |
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| Affiliation: | Chen Guanghua 1,2,Cai Rangqi2,Song Xuemei1 and He Deyan2 |
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| Keywords: | porous silicon diamond films field electron emission |
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