| 金属与硼硅玻璃场致扩散连接形成机理 |
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| 引用本文： | 孟庆森,俞萍,张丽娜,薛锦. 金属与硼硅玻璃场致扩散连接形成机理[J]. 焊接学报, 2001, 22(4): 63-65 |
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| 作者姓名： | 孟庆森 俞萍 张丽娜 薛锦 |
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| 作者单位： | 1. 西安交通大学焊接研究所,太原理工大学材料学院,
2. 西安交通大学焊接研究所, |
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| 基金项目： | 西安交通大学国家重点学科建设基金资助项目 |
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| 摘 要： | 以固体电解质硼硅玻璃与单晶硅和铝的连接为例，研究了玻璃－金属FDB连接过渡区的微观组织特征，分析了连接形成机理及主要工艺参数对连接过程的影响。提出了金属一氧化物过渡层－玻璃的接头结构形式及静电场条件下离子扩散及接合模型。测试采用SEM及超轻元素EDX、XRD；试验采用专用链接焊机；工艺参数电压400－800V，外压力0.05-1MPa，温度250－400℃。研究认为，金属／玻璃的界面接合成因于玻璃中负氧离子的扩散及界面复合氧化物的沉积形成。电压、温度、外压力及试件表面状态均是离子迁移和接合的主要影响因素。过渡区柱状组织结构对接合强度具有重要意义。
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| 关 键 词： | 玻璃 金属 场致扩散连接 过渡区 |
| 文章编号： | 0253-360X(2001)04-63-03 |
| 收稿时间： | 2001-04-18 |
Joining Mechanism of Field-assisted Diffusion Bonding of Borosilicate Glass to Metals |
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| MENG Qing-sen,Yu Pin,Zhang Li-na and Xue jin. Joining Mechanism of Field-assisted Diffusion Bonding of Borosilicate Glass to Metals[J]. Transactions of The China Welding Institution, 2001, 22(4): 63-65 |
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| Authors: | MENG Qing-sen Yu Pin Zhang Li-na Xue jin |
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| Affiliation: | Institute of Welding of Xi''an Jiaotong University, Xi''an 710049, China,Institute of Welding of Xi''an Jiaotong University, Xi''an 710049, China,Institute of Welding of Xi''an Jiaotong University, Xi''an 710049, China and Institute of Welding of Xi''an Jiaotong University, Xi''an 710049, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | glass metal field assisted difusion bonding transitional arca. |
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