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Fabrication of optical elements with better than λ/1000 thickness uniformity by thin-film deposition through a multi-aperture mask
Authors:J.W. Arkwright
Affiliation:CSIRO Industrial Physics, PO Box 218, Lindfield, NSW 2070, Australia
Abstract:
Keywords:Deposition process   Optical coatings   Physical vapour deposition (PVD)   Optical surface correction
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