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磁过滤电弧离子镀制备DLC薄膜的表面形貌和成键状态
引用本文:郭朝乾,林松盛,石倩,韦春贝,李洪,汪唯,代明江.磁过滤电弧离子镀制备DLC薄膜的表面形貌和成键状态[J].材料研究与应用,2019,13(2):83-89.
作者姓名:郭朝乾  林松盛  石倩  韦春贝  李洪  汪唯  代明江
作者单位:广东省新材料研究所,现代材料表面工程技术国家工程实验室,广东省现代表面工程技术重点实验室,广东 广州 510650
基金项目:广东省自然科学基金(2018A030313660),广东省科技计划项目(2017A070701027,2014B070705007),广东省科学院创新人才引进资助项目(2018GDASCX-0948),广东省科学院科技提升项目(2017GDASCX-0111)
摘    要:利用磁过滤电弧离子镀技术在单晶Si基体表面沉积了类金刚石薄膜,研究了工作气压和偏压占空比对DLC薄膜表面形貌、沉积速率和成键情况的影响.通过扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用Image pro-plus图像处理软件统计薄膜表面大颗粒的面积和数量,通过拉曼光谱仪测量类金刚石薄膜的成键状态,结果表明,随着工作气压从0.1 Pa升至0.5 Pa,薄膜表面大颗粒的总面积逐渐增加,沉积速率下降,sp3键含量增加;偏压占空比从15,提高至75,,表面大颗粒的总面积和数量均不断升高,沉积速率下降,薄膜中sp3键含量先降后升;占空比为30,时,薄膜中sp3键含量最低.

关 键 词:类金刚石薄膜,磁过滤电弧离子镀,大颗粒,成键状态

Surface morphology and bonding states of DLC films prepared by magnetic filtered arc ion plating
GUO Chaoqian,LIN Songsheng,SHI Qian,WEI Chunbei,LI Hong,WANG Wei,DAI Mingjiang.Surface morphology and bonding states of DLC films prepared by magnetic filtered arc ion plating[J].Journal of Guangdong Non-Ferrous Metals,2019,13(2):83-89.
Authors:GUO Chaoqian  LIN Songsheng  SHI Qian  WEI Chunbei  LI Hong  WANG Wei  DAI Mingjiang
Abstract:
Keywords:
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