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在线式等离子清洗设备整线匹配性研究
引用本文:王大伟,马世杰,任耀华. 在线式等离子清洗设备整线匹配性研究[J]. 国防制造技术, 2016, 0(2): 9-13. DOI: 10.3969/j.issn.1674-5574.2016.02.003
作者姓名:王大伟  马世杰  任耀华
作者单位:中国电子科技集团公司第二研究所,山西太原,030024
摘    要:随着科学技术的不断发展,电子产品向便携式、小型化、高性能化方向发展,封装质量的好坏将直接影响到电子产品成本及性能,采用等离子清洗去除材料表面污染物提高表面活性,进而提高封装质量已变成封装中不可缺少的工艺过程。批量式等离子清洗设备由于在封装工艺中自身的局限性,正逐步被在线式所取代。本文对一种在线式等离子清洗设备进行了整线匹配性研究设计,提出了大幅提高清洗效果及产能的有效解决方案。

关 键 词:等离子清洗  在线式等离子清洗设备  整线匹配  产能

Research on the whole line matching of In-line plasma cleaning equipment
Abstract:
Keywords:
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