第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会论文选登 多晶硅电池叠层抗反射层的设计研究 |
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引用本文: | 丁武昌,贾锐,崔冬萌,陈晨,孟彦龙,乔秀梅,金智,刘新宇.第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会论文选登 多晶硅电池叠层抗反射层的设计研究[J].太阳能,2013(1):35-37. |
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作者姓名: | 丁武昌 贾锐 崔冬萌 陈晨 孟彦龙 乔秀梅 金智 刘新宇 |
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作者单位: | 中国科学院微电子研究所 |
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基金项目: | 科技部2009CB939703、2012AA050304;NSFC51172268、11104319、2013年度基金重点、北京市Y2BK024001;中科院Y1YT064001、Y1YF034001、Y2YF014001 |
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摘 要: | 根据多晶硅电池对表面抗反射薄膜设计的需要,基于薄膜反射特征导纳矩阵理论结合电池的背底反射,建立了完善的表面反射和电池吸收计算模型,在已知薄膜复折射率的前提下可给出反射率的精确计算结果。利用该计算模型,设计了多种表面反射结构,其中硅量子点镶嵌氮化硅与二氧化硅组成的双层抗反射薄膜,在AM1.5光谱下其积分反射率最低可达到4.38%;分析了不同硅量子点体积比对于该双层抗反射膜的影响,系统给出了实际生长该双层抗反射层的具体参数,即富硅氮化硅中的Si∶N=1∶1时即可达到较好的表面抗反射效果。
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关 键 词: | 抗反射 特征导纳 硅量子点 太阳电池 |
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