| 等离子热丝化学气相沉积金刚石膜工艺参数研究 |
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| 引用本文： | 毕京锋,付强,石玉龙. 等离子热丝化学气相沉积金刚石膜工艺参数研究[J]. 功能材料, 2005, 36(7): 1056-1058 |
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| 作者姓名： | 毕京锋 付强 石玉龙 |
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| 作者单位： | 青岛科技大学,材料与环境科学学院,山东,青岛,266042;青岛科技大学,材料与环境科学学院,山东,青岛,266042;青岛科技大学,材料与环境科学学院,山东,青岛,266042 |
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| 基金项目： | 山东省自然科学基金资助项目(Y2001F10) |
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| 摘 要： | 采用等离子热丝化学气相沉积(PHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备实验。实验条件为：氢气流量为200sccm，甲烷流量为2～12sccm，基体温度为700～900℃，偏压为0～400V，真空室压力为4kPa。通过实验得出了甲烷含量、基体温度和偏压对沉积金刚石膜的影响，并运用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)等测试方法对金刚石薄膜进行了观察分析。
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| 关 键 词： | 等离子 热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 |
| 文章编号： | 1001-9731(2005)07-1056-03 |
| 修稿时间： | 2004-10-25 |
Study on deposition parameter of diamond film prepared by plasma hot-filament chemical vapor deposition |
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| BI Jing-feng,FU Qiang,SHI Yu-long. Study on deposition parameter of diamond film prepared by plasma hot-filament chemical vapor deposition[J]. Journal of Functional Materials, 2005, 36(7): 1056-1058 |
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| Authors: | BI Jing-feng FU Qiang SHI Yu-long |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma hot filament chemical vapor deposition diamond film |
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