测量三种关键工艺参数的微电子测试结构

本文叙述了Ｘ射线曝光掩膜的评估、Ｆ－Ｎ隧道电流检测氧化层厚度以及三角形栅ＭＯＳ管测量偏称钽的微电子测试结构，并讨论了量测的结果。