铁电薄膜及其制备技术 |
| |
引用本文: | 王华.铁电薄膜及其制备技术[J].桂林电子工业学院学报,2001,21(2):47-51. |
| |
作者姓名: | 王华 |
| |
摘 要: | 具有铁电性且厚度尺寸为数十内米到数微米的铁电薄膜具有良好的压电性、热释电性、电光及非线性光学特性,在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上新型功能材料研究的热点之一。通过综述铁电薄膜及制备技术研究的新进展,给大空介绍铁电薄膜材料的基本特征、性能及应用、并重点分析铁电薄膜主要制备技术的优缺点,指出了目前铁电薄膜及其制备技术研究需要重点解决的一些问题。
|
关 键 词: | 铁电薄膜 制备技术 溅射 脉冲激光沉积 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |
|