| 大气颗粒物采样膜本底值的研究 |
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| 引用本文： | 朱光华.大气颗粒物采样膜本底值的研究[J].过程工程学报,2006,6(Z2):25-27. |
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| 作者姓名： | 朱光华 |
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| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心,射线束与材料改性教育部重点实验室,北京,100875 |
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| 摘 要： | 用PIXE分析技术对6种在大气颗粒物采样中常用的膜(特弗纶膜,瓦特门膜,核孔膜,迈拉膜,聚氯乙烯膜和石英膜)的本底杂质元素的含量进行了测定.结果表明一些膜中含有PIXE分析灵敏元素(即原子序数 Z≥12)的量极低,它们对大气颗粒物分析结果的影响可以忽略,一些膜中的含量不能忽略,一些膜不适合用于PIXE分析.
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| 关 键 词： | PIXE分析 大气颗粒物 采样膜 |
| 文章编号： | 1009-606X(2006)S2-0025-03 |
| 修稿时间： | 2005年10月17 |
Study on Background Values of Blank Films Used for Collecting Atmospheric Particulate Matter |
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| ZHU Guang-hua.Study on Background Values of Blank Films Used for Collecting Atmospheric Particulate Matter[J].Chinese Journal of Process Engineering,2006,6(Z2):25-27. |
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| Authors: | ZHU Guang-hua |
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