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| 电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为I—O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响 | |
| 引用本文： | 陈崇木,崔宇,张涛,邵亚薇,孟国哲,王福会,李晓刚,董超芳.电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为I—O2对纯镁在薄液膜下腐蚀行为的影响[J].腐蚀科学与防护技术,2009,21(2). |
| 作者姓名： | 陈崇木 崔宇 张涛 邵亚薇 孟国哲 王福会 李晓刚 董超芳 |
| 作者单位： | [1]哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院腐蚀与防护实验室,哈尔滨150001 [2]中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016 [3]北京科技大学腐蚀与防护中心,北京100083 |
| 摘 要： | 用电化学法研究了纯镁在未除氧和除氧的下不同厚度薄液膜下的腐蚀行为．结果表明：薄液膜下纯镁腐蚀的阴极过程受氢还原控制；液膜厚度的减小使其阴极过程和阳极过程都受到抑制，对阳极过程影响很大．氧气的存在对阳极过程的影响很大，并使得纯镁表面易于生成表面膜，表面膜更加连续和致密． |
| 关 键 词： | 纯镁 薄液膜 氧气 腐蚀 |
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