磁控溅射WO_3薄膜的制备及其NO_2气敏特性研究 |
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引用本文: | 沈岩柏,范安锋,张宝庆,曹先敏,魏德洲,刘文刚,高淑玲.磁控溅射WO_3薄膜的制备及其NO_2气敏特性研究[J].功能材料,2015(7):7118-7121. |
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作者姓名: | 沈岩柏 范安锋 张宝庆 曹先敏 魏德洲 刘文刚 高淑玲 |
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作者单位: | 东北大学资源与土木工程学院 |
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基金项目: | 国家优秀青年科学基金资助项目(51422402);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(N120501002);教育部高等学校博士学科点专项科研基金新教师类资助项目(20130042120033);教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(47-3);辽宁省高等学校优秀人才支持计划资助项目(LJQ2013025) |
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摘 要: | 采用直流反应磁控溅射法,在室温条件下通过改变放电气体压强制备出具有不同膜密度的WO3薄膜。结构表征结果表明,由单斜晶WO3纳米颗粒组成的薄膜具有层状结构,随着放电气体压强的增加,膜密度呈下降趋势。气敏特性研究结果表明,由WO3薄膜制备而成的气体传感器在工作温度为200℃时获得对NO2气体的最大灵敏度,并在50~300℃的工作温度范围内对NO2气体均展现出良好的气敏特性。在相同的检测条件下,气体灵敏度随着膜密度的减少而增加。
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关 键 词: | WO3 薄膜 磁控溅射 NO2 气敏特性 |
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