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| 用正电子湮没寿命方法研究低温镀铁层的结构和晶粒 | |
| 引用本文： | 郁伟中,曹必松,陈皓明,顾德荣.用正电子湮没寿命方法研究低温镀铁层的结构和晶粒[J].核技术,1985(8). |
| 作者姓名： | 郁伟中 曹必松 陈皓明 顾德荣 |
| 作者单位： | 清华大学 (郁伟中，曹必松，陈皓明)，鞍山钢铁公司钢铁研究所(顾德荣) |
| 摘 要： | 低温电镀方法可在工件表面产生高硬度、耐磨的镀铁层,但工作于较高温度时耐磨性和硬度下降。本文研究在不同等时退火和等温退火条件下镀铁层内晶粒度、缺陷变化等情况。 在45号钢上用无刻蚀镀铁工艺产生0.5mm厚的镀铁层,经100～1200℃和10～420分钟的不同退火温度和退火时间热处理,平均寿命τ_m的变化见图1、2。 |
| 关 键 词： | 正电子湮没 电镀层 |
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