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阴极电弧沉积技术及其发展
引用本文:
凌国伟,沈辉宇.阴极电弧沉积技术及其发展[J].真空,1996(1):1-12.
作者姓名:
凌国伟
沈辉宇
作者单位:
机械工业部武汉材料保护研究所
摘 要:
本文分析了阴极电弧等离子沉积技术,以及有关的机理和应用,与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较,特别强调了重要的技术方面和最近的发展。
关 键 词:
真空电弧
气相沉积
离子镀膜
薄膜沉积
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