| 磁控溅射法制备CNx薄膜及其结构表征 |
| |
| 引用本文： | 王继刚,李红,张旭海,李凡,蒋建清.磁控溅射法制备CNx薄膜及其结构表征[J].材料工程,2006(7):11-13,18. |
| |
| 作者姓名： | 王继刚 李红 张旭海 李凡 蒋建清 |
| |
| 作者单位： | 东南大学,材料科学与工程系,南京,210096;东南大学,材料科学与工程系,南京,210096;东南大学,材料科学与工程系,南京,210096;东南大学,材料科学与工程系,南京,210096;东南大学,材料科学与工程系,南京,210096 |
| |
| 基金项目： | 东南大学校科研和教改项目 |
| |
| 摘 要： | 以Ar/N2混合气体作为溅射气体,利用直流磁控溅射的方法制备子碳氮薄膜.利用X射线衍射和红外光谱对碳氮薄膜进行了结构分析.IR光谱证实了薄膜中碳氮化合物的形成,而XRD的检测结果表明,类石墨相g-C3N4是碳氮薄膜中的主要成分,同时有极少量的β-C3N4晶相生成.同时发现,Ar/N2溅射气体的分压对获取β-CsN4有着明显的影响.本实验中,当N2体积分数为33%,碳氮薄膜中β-C3N4晶相的含量最高.
|
| 关 键 词： | 碳化氮 薄膜 磁控溅射 结构表征 |
| 文章编号： | 1001-4381（2006）07-0011-03 |
| 收稿时间： | 2005-07-11 |
| 修稿时间： | 2005-07-112006-02-25 |
Structure Characterization and Preparation of Carbon Nitride Film Using Magnetron Sputtering |
| |
| WANG Ji-gang,LI Hong,ZHANG Xu-hai,LI Fan,JIANG Jian-qing.Structure Characterization and Preparation of Carbon Nitride Film Using Magnetron Sputtering[J].Journal of Materials Engineering,2006(7):11-13,18. |
| |
| Authors: | WANG Ji-gang LI Hong ZHANG Xu-hai LI Fan JIANG Jian-qing |
| |
| Affiliation: | Department of Materials Science and Engineering, Southeast University, Nanjing 210096,China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | carbon nitride film magnetron sputtering structure characterization |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
