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反应条件对氮(碳/氧)化硅薄膜性能的影响
引用本文:王君,李芬,吉小利,储昭荣,徐国财. 反应条件对氮(碳/氧)化硅薄膜性能的影响[J]. 化学与生物工程, 2004, 21(1): 20-22
作者姓名:王君  李芬  吉小利  储昭荣  徐国财
作者单位:安徽理工大学化工系,安徽,淮南,232001;安徽理工大学化工系,安徽,淮南,232001;安徽理工大学化工系,安徽,淮南,232001;安徽理工大学化工系,安徽,淮南,232001;安徽理工大学化工系,安徽,淮南,232001
基金项目:淮南科技基金(200201)
摘    要:就氮(碳/氧)化硅薄膜的反应条件——组成和结构——性能之间关系的国内外研究进行了综述。

关 键 词:氮(碳/氧)化硅  反应条件  薄膜
文章编号:1672-5425(2004)01-0020-03
修稿时间:2003-11-13

The Effect of Reaction Circumstances on Properties of (Carbon) Silicon (Oxy) Nitride
WANG Jun,LI Fen,JI Xiao-li,ZHU Zhao-rong,XU Guo-cai. The Effect of Reaction Circumstances on Properties of (Carbon) Silicon (Oxy) Nitride[J]. Chemistry & Bioengineering, 2004, 21(1): 20-22
Authors:WANG Jun  LI Fen  JI Xiao-li  ZHU Zhao-rong  XU Guo-cai
Abstract:The study on relationship between reaction circumstances -composition-properties of (carbon) silicon (oxy)nitride home and abroad was reviewed in this article.
Keywords:(carbon) silicon (oxy)nitride  reaction circumstances  films
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