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杂志ISSN号
0.275μm nMOST's中陷阱辅助隧穿电流对漏端LDD区DCIV谱峰的影响
引用本文:
刘东明,杨国勇,王金延,许铭真,谭长华.0.275μm nMOST''s中陷阱辅助隧穿电流对漏端LDD区DCIV谱峰的影响[J].半导体学报,2003,24(2):122-126.
作者姓名:
刘东明
杨国勇
王金延
许铭真
谭长华
作者单位:
北京大学微电子学研究所,北京100871
基金项目:
国家重点基础研究发展计划(973计划);G20000036503;
摘 要:
应用 direct- currentcurrent voltage(DCIV)和电荷泵 (change pum ping)技术研究了 L DD n MOST’s在热电子应力下产生的界面陷阱 .测试和分析的结果显示 ,一股额外的漏端电流影响了 DCIV谱峰中表征漏区的 D峰 .这股电流主要是陷阱辅助隧穿电流 .
关 键 词:
direct-currentcurrentvoltage(DCIV)
热电子
可能性
陷阱辅助隧穿电流
电荷泵(CP)
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