| 多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析 |
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| 引用本文： | 郎文昌,高斌,杜昊,肖金泉,谢婷婷,王向红.多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析[J].真空科学与技术学报,2015,35(6). |
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| 作者姓名： | 郎文昌 高斌 杜昊 肖金泉 谢婷婷 王向红 |
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| 作者单位： | 1. 温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室 温州325035
2. 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部 沈阳 110016 |
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| 摘 要： | 电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。
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| 关 键 词： | 机械式旋转磁控弧源 旋转不对称偏心轴向磁场 旋转偏心横向磁场 旋转偏心四极对顶磁场 旋转偏心拱形磁场 |
Effect of Magnetic Field Rotating in Multi-Mode on Arc-Spot Discharge in Arc Ion Plating |
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| Lang Wenchang,Gao Bin,Du Hao,Xiao Jinquan,Xie Tingting,Wang Xianghong.Effect of Magnetic Field Rotating in Multi-Mode on Arc-Spot Discharge in Arc Ion Plating[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2015,35(6). |
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| Authors: | Lang Wenchang Gao Bin Du Hao Xiao Jinquan Xie Tingting Wang Xianghong |
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| Keywords: | Mechanical rotating magnetic field assisted arc source Rotating asymmetric and offset axial magnetic field Rotating offset transverse magnetic field Rotating offset quadrupole (four poles) antipodal magnetic field Rotating offset arched magnetic field |
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