| 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响[J]. 材料科学与工程学报, 2005, 23(3): 341-344 |
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| 作者姓名： | 王贺权 沈辉 巴德纯 汪保卫 闻立时 |
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| 作者单位： | 东北大学,辽宁,沈阳,110004;沈阳农业大学,辽宁,沈阳,110161;中山大学,广东,广州,510275;东北大学,辽宁,沈阳,110004;中国科学院广州能源研究所,广东,广州,510070;中国科学院金属研究所,辽宁,沈阳,110016 |
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| 摘 要： | 应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6sccm,氧流量为15sccm,溅射时间为30分钟的条件下,通过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质.应用n&k Analyzer 1200测量,当温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动；温度对消光系数k影响不大；当温度低于180℃薄膜的折射率变化不大,当温度达到240℃左右时薄膜的折射率明显降低.通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的晶体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑.
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| 关 键 词： | 二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 温度 反射率 |
| 文章编号： | 1004-793X(2005)03-0341-04 |
| 修稿时间： | 2004-08-10 |
Effect of Temperature on Optical Properties of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering |
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| WANG He-quan,SHEN Hui,BA De-chun,WANG Bao-wei,WEN Li-shi. Effect of Temperature on Optical Properties of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2005, 23(3): 341-344 |
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| Authors: | WANG He-quan SHEN Hui BA De-chun WANG Bao-wei WEN Li-shi |
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| Keywords: | TiO_2 thin film DC reactive magnetron sputtering temperature reflectance |
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