化学溶液沉积法制备掺镧Bi2Ti2O7薄膜及其特性的研究 |
| |
引用本文: | 杨雪娜,王弘,尚淑霞,姚伟峰,张寅,刘延辉,周静涛.化学溶液沉积法制备掺镧Bi2Ti2O7薄膜及其特性的研究[J].硅酸盐学报,2004,32(3):251-254. |
| |
作者姓名: | 杨雪娜 王弘 尚淑霞 姚伟峰 张寅 刘延辉 周静涛 |
| |
作者单位: | 山东大学,晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东大学环境工程与科学学院,济南,250100 |
| |
基金项目: | 山东大学晶体材料国家重点实验室基金(04010125)资助项目. |
| |
摘 要: | 采用化学溶液沉积法,在Si(100)衬底上制备了(Bi0.925La0.075)2Ti2O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明:用一定量的La^3 来代替部分Bi^3 ,提高了Bi2Ti2O7相薄膜的稳定性。研究发现:经过高温(850℃)退火处理后,该薄膜的结晶性和取向性都很好,111]方向取向率为90X。根据XRD谱图中的(444)衍射峰,计算出晶格常数a≈20.66A。薄膜的电流-电压和电容-电压特性的测量结果表明,该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数。
|
关 键 词: | 掺镧钛酸铋 薄膜 化学溶液沉积法 X射线衍射 |
文章编号: | 0454-5648(2004)03-0251-04 |
修稿时间: | 2003年10月10 |
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录! |
|