粉末溅射金属氧化物气敏薄膜和元件Ⅰ.粉末溅射金属氧化物气敏薄膜 |
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引用本文: | 田芳,郭晓丽,张颖欣,王倩,裘南畹.粉末溅射金属氧化物气敏薄膜和元件Ⅰ.粉末溅射金属氧化物气敏薄膜[J].山东工业大学学报,2008,38(5). |
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作者姓名: | 田芳 郭晓丽 张颖欣 王倩 裘南畹 |
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作者单位: | [1]山东大学化学与化工学院,山东济南250100 [2]济南半导体实验所,山东济南250100 [3]山东大学物理学院,山东济南250100 |
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摘 要: | 利用反溅,发展了粉末溅射工艺;指出了粉末溅射对研制稳定的薄膜气敏元件的重要性;给出了粉末掺杂比与薄膜掺杂比关系的实验结果;给出了SnO2(100-x)/CeO2(x)最佳灵敏度的掺杂x%的范围;给出了灵敏度随膜厚变化的特征,以及一些薄膜的最佳膜厚l^x的数值;给出了响应时间随膜厚变化的规律.
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关 键 词: | 粉末溅射 最佳膜厚 响应时间 |
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