高频等离子体气相反应法制备氮化硅超微细粉 |
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作者姓名: | 古伟良 陈建春 |
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作者单位: | 北京有色金属研究总院(古伟良),北京有色金属研究总院(陈建春) |
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基金项目: | 国家高技术八六三计划资助项目 |
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摘 要: | 用高频纯氮等离子体为热源的SiCl_4-NH_3-H_2系的高温气相反应,合成得到了白色非晶态Si_3N_4超微细粉。反应系统的结构及材质均能满足高温气相反应的要求。氮化硅超微细粉呈球形、均匀、分散性好,平均粒径小于50nm,比表面积大于70m~2/g。粉末产品纯度高,Fe、Al、Ca、Mg等金属杂质均小于0.01%,含碳量小于0.05%,含氧量小于2%。主相成分中含氮量大于37%,含硅量大于57%。
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关 键 词: | 氧化硅 粉末 等离子体 气相反应法 |
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