| 纳米高阻隔SiOx薄膜的等离子体制备 |
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| 引用本文： | 孙运金,陈强,付亚波,葛袁静. 纳米高阻隔SiOx薄膜的等离子体制备[J]. 北京印刷学院学报, 2007, 15(4): 23-25 |
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| 作者姓名： | 孙运金 陈强 付亚波 葛袁静 |
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| 作者单位： | 北京印刷学院等离子体物理及材料研究室,北京102600 |
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| 基金项目： | 北京市教委科研项目，北京印刷学院校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 我国的阻隔包装薄膜采用多层共挤复合薄膜来达到对包装物基本的阻隔性能要求.为了达到包装材料更高的阻隔性,简化工艺并降低生产成本,采用潘宁放电等离子体增强化学气相沉积技术(PDPs),以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体沉积氧化硅薄膜.研究了不同放电参数,如气体的工作压强、放电功率、沉积时间和氧气和单体的比例等,对二氧化硅薄膜的阻隔性能影响.采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)和透湿、透氧测试仪分析了沉积膜的化学结构成分、测试薄膜的阻隔性能,得出如下结论:沉积的薄膜主要成分为氧化硅,透氧率和透湿率分别从135cc/m2/day,24.5g/m2·24h降至约1.7cc/m2/day,1.5g/m2·24h,达到国外先进水平.
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| 关 键 词： | 阻隔包装 阻隔性能 |
| 文章编号： | 1004-8626（2007）04-0023-03 |
| 修稿时间： | 2007-04-17 |
Nano-Silicon Dioxide Film for High Barrier Performance Deposited by PDPs |
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| SUN Yun-jin,CHEN Qiang,FU Ya-bo,GE Yuan-jing. Nano-Silicon Dioxide Film for High Barrier Performance Deposited by PDPs[J]. Journal of Beijing Institute of Graphic Communication, 2007, 15(4): 23-25 |
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| Authors: | SUN Yun-jin CHEN Qiang FU Ya-bo GE Yuan-jing |
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| Affiliation: | Laboratory of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiO2 PDPs |
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