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| 氧化钕薄膜的红外光学特性 | |
| 引用本文： | 李正直,王振明.氧化钕薄膜的红外光学特性[J].红外与毫米波学报,1984,3(4). |
| 作者姓名： | 李正直 王振明 |
| 作者单位： | 苏州大学物理系 (李正直)，苏州大学物理系(王振明) |
| 摘 要： | 在稀土材料的光学特性研究中,薄膜光学特性的研究还很少见到。为此,我们测量了氯化钕、氧化钕薄膜的红外透射特性及其折射率,表明Nd_2O_3可作为一种高折射率、透红外的光学薄膜材料。鉴于NdCl_3粉末熔点比Nd_2O_3低得多,我们首先采用真空镀膜技术,用钼舟加热,在ZnS基片上蒸镀得到了NdCl_3薄膜。利用Perkin-Elmer红外分光光度计测定了它的红外 |
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