| CVD金刚石膜产业化制备技术研究 |
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| 引用本文： | 王兵,梅军,李力,季锡林,冉均国,苟立.CVD金刚石膜产业化制备技术研究[J].材料科学与工艺,2003,11(1):30-33. |
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| 作者姓名： | 王兵 梅军 李力 季锡林 冉均国 苟立 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学,无机材料系,四川,成都,610065
2. 西南结构力学研究所,四川,绵阳,621900 |
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| 基金项目： | 国家科技攻关项目，国家自然科学基金，J9503，10275046，， |
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| 摘 要： | 为了解决化学气相沉积金刚石膜产业化进程中存在的生长速率慢、沉积尺寸小的难题,自行研制了适宜于大尺寸金刚石膜高速生长的电子辅助热灯丝式化学气相沉积(EAHFCVD)装置,通过反应气体中加氧将碳源浓度提高到10%以上,并优化反应压力与直流偏流密度二参数间的匹配,研究了该装置的生产特性,同时利用SEM、XRD和Raman光谱对沉积的金刚石膜进行了分析表征.研究结果表明,应用该装置高质量金刚石膜的沉积尺寸可达100mm以上,生长速率达到约10μm/h的水平,并制备出100mm×1 5mm的完整金刚石自支撑膜片,该技术可满足产业化生产的要求.
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| 关 键 词： | CVD 金刚石膜 产业化制备技术 热灯丝 电子辅助热灯丝化学气相沉积装置 化学气相沉积 生长特性 |
| 文章编号： | 1005-0299(2003)01-0030-04 |
| 修稿时间： | 2002年2月23日 |
A study on industrialized preparation technology of CVD diamond film |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | heat filament CVD diamond large size high-speed growth |
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