| 高反射镜膜层应力耦合研究 |
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| 引用本文： | 胡江川,蔡红梅,喙松林,邱服民.高反射镜膜层应力耦合研究[J].红外与激光工程,2011,40(12):2447-2450. |
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| 作者姓名： | 胡江川 蔡红梅 喙松林 邱服民 |
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| 作者单位： | 成都精密光学工程研究中心,四川成都,610041 |
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| 摘 要： | 为了控制高损伤阈值高反射镜膜层的应力,研究了沉积过程中沉积倾角、充氧量对高、低折射率单层膜应力大小的影响.研究发现这两个参数对控制薄膜应力有很大影响,SiO2薄膜在沉积倾角较小和充氧量增大时应力都逐渐减小,SiO2薄膜应力为压应力；HfO2薄膜在充氧量增大时薄膜应力变小,HfO2薄膜应力为张应力.因此,根据SiO2和H...
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| 关 键 词： | 剩余应力 充氧量 沉积倾角 |
Matching the residual stress between thin films for high reflective mirrors |
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| Hu Jiangchuan
,
Cai Hongmei
,
Chen Songlin
,
Qiu Fumin.Matching the residual stress between thin films for high reflective mirrors[J].Infrared and Laser Engineering,2011,40(12):2447-2450. |
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| Authors: | Hu Jiangchuan Cai Hongmei Chen Songlin Qiu Fumin |
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| Abstract: | |
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