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| 高含量NaOH体系中Mg2SiO4的浸出机理 | |
| 作者姓名： | 赵昌明 翟玉春 |
| 作者单位： | 东北大学材料冶金学院 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划资助项目(2007CB613603);上海市现代冶金与材料制备重点实验室开放课题项目(SELF-2009-02) |
| 摘 要： | 以Mg(OH)2.4MgCO3.6H2O和SiO2为原料,采用高温固相法合成Mg2SiO4,利用XRD和Raman光谱表征其结构。通过正交试验,优化高含量NaOH中Mg2SiO4的浸出反应条件,得出最佳试验条件为:温度220℃,时间120 min,液固比6:1,NaOH溶液含量85%(质量分数)。在优化试验基础上,采用拉曼光谱对碱浸出过程进行在线检测,利用X射线衍射仪分析碱浸后的水浸渣,研究高含量NaOH中Mg2SiO4浸出反应机理,结果表明:在反应过程中硅氧四面体中的Si—O键被破坏,NaOH介入硅酸盐晶格中,Mg2+经过碱浸过程可以脱离SiO4阵列,以Mg(OH)2形式从其硅酸盐中得以释放。 |
| 关 键 词： | Mg2SiO4 NaOH溶液 拉曼光谱 反应机理 |
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