| 沉积条件对RF反应溅射多晶ZnO薄膜结构的影响 |
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| 引用本文： | 龚恒翔,阎志军,杨映虎,王印月.沉积条件对RF反应溅射多晶ZnO薄膜结构的影响[J].功能材料与器件学报,2000,6(4):428-431. |
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| 作者姓名： | 龚恒翔 阎志军 杨映虎 王印月 |
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| 作者单位： | 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金!资助项目 (No .698760 17) |
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| 摘 要： | 采用ＲＦ反应溅射法在Ｓｉ（１１１）、玻璃衬底上制备了具有良好Ｃ轴承向的多晶ＺｎＯ薄膜。用ＸＲＤ分析了沉积条件（衬底温度、工作气体中的氧与氩气压比和衬底种类）对样品结构的影响，发现（１）薄膜的取向性随着衬底温或高而增强，超过４００℃后薄膜质量开始变差；（２）工作气体中氧与氩气压比（Ｐｏ２／ＰＡｒ）为２：３时，薄膜取向性最好；（３）薄膜晶粒尺寸１１－３４ｎｍ，相同沉积条件下，单晶硅衬底样品（００２）衍
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 RF反应溅射 沉积条件 择优取向 |
| 修稿时间： | 2000-07-14 |
Effect of deposition condition on structure of RF reactively sputtered polycrystalline ZnO films |
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| GONG Heng-xiang,YAN Zhi-jun,YANG Ying-hu,WANG Yin-yue.Effect of deposition condition on structure of RF reactively sputtered polycrystalline ZnO films[J].Journal of Functional Materials and Devices,2000,6(4):428-431. |
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| Authors: | GONG Heng-xiang YAN Zhi-jun YANG Ying-hu WANG Yin-yue |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO films RF reactively sputtering Preferred orientation |
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