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熔覆材料与工艺参数对镁合金激光熔覆层缺陷的影响
作者姓名:李晓锡  李志勇  朱润东  薛飞飞
作者单位:中北大学材料科学与工程学院;
基金项目:山西省回国留学人员科研基金资助项目(2012—69);山西省留学人员科技活动项目择优基金资助项目(2013)
摘    要:镁合金激光熔覆层存在着大量的结构缺陷,这些缺陷制约着熔覆层的使用性能。为获得缺陷少的熔覆层,采用不同工艺参数在镁合金表面分别制备Cu-Ni涂层和Al-Cu涂层。本文主要利用金相显微镜观测方法,探究了激光熔覆材料、功率和扫描速度对缺陷的影响。通过分析缺陷形成机理,提出防治方法。结果表明,Al-Cu系熔覆层比Cu-Ni系熔覆层表面平整,内部结构缺陷少;当电流为130 A,扫描速度为1.5 mm/s时,熔覆层表面平整,内部缺陷少。因此,采用匹配的熔覆材料和优化工艺参数可以减少缺陷。

关 键 词:激光熔覆  镁合金  工艺参数
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