| 紫外伤害培养对酵母水解液紫外吸收性能的影响 |
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| 引用本文： | 赵华,代彦,齐刚. 紫外伤害培养对酵母水解液紫外吸收性能的影响[J]. 日用化学工业, 2004, 34(2): 91-93 |
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| 作者姓名： | 赵华 代彦 齐刚 |
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| 作者单位： | 天津科技大学,食品科学与生物工程学院,天津,300222;天津科技大学,食品科学与生物工程学院,天津,300222;天津科技大学,食品科学与生物工程学院,天津,300222 |
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| 基金项目： | 天津市教委科技发展基金资助项目(20010614) |
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| 摘 要： | 研究了紫外伤害培养对酵母菌生长繁殖的影响及紫外伤害培养后酵母细胞的酶水解条件和酵母水解液的紫外吸收性能.实验结果表明酵母菌紫外伤害培养时间为60h～72h.紫外伤害培养后酵母细胞的最佳酶水斛条件为质量分数为10%的酵母细胞悬浮液中添加质量分数为2%的蛋白酶(细胞干重),pH6.5,52℃振荡酶水斛26h.紫外伤害培养的酵母细胞经酶水解离心后,上清液稀释10倍测定OD365为0.349,是未经紫外伤害培养的酵母菌酶水解液的3.46倍.波长326Bm～400nm(防晒黑区)的紫外吸光率>95%.说明紫外伤害培养后的酵母细胞酶水解液是极具开发价值的UVA生物吸附剂.
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| 关 键 词： | 防晒剂 酵母 紫外伤害培养 紫外吸收性能 |
| 文章编号： | 1001-1803(2004)02-0091-03 |
| 修稿时间： | 2003-09-02 |
Effect of UV injuring culture on UV absorption capability of yeast hydrolysate |
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| ZHAO Hua,DAI Yan,QI Gang. Effect of UV injuring culture on UV absorption capability of yeast hydrolysate[J]. China Surfactant Detergent & Cosmetics, 2004, 34(2): 91-93 |
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| Authors: | ZHAO Hua DAI Yan QI Gang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | sun screener yeast UV injuring culture UV absorptivity |
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