用于MMIC的自对准平面GaAs MESFET工艺

本文描述了制备高水平和高成品率MMIC的自对准栅MESFET工艺。为了降低栅电阻,在WSi耐熔栅上叠加了Ti/Au层。同时为了提高栅击穿电压和减小栅电容,采用了一种LDD(轻掺杂漏区)结构。用这种工艺制备的器件在2in片上Ⅰ_(dss)的标准偏差大约为6％。制得的0.5μm栅长FET的截止频率(f_T)为42GHz,在12GHz下,该FET的噪声系数(NF_(min))为1.25dB,NF_(min)小于1.4dB的成品率高于80％。