| 十六烷基三甲基溴化铵对化学镀Co-Ni-P的影响 |
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| 引用本文： | 蒋天智,刘少友,周昊.十六烷基三甲基溴化铵对化学镀Co-Ni-P的影响[J].日用化学工业,2007,37(4):219-222. |
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| 作者姓名： | 蒋天智 刘少友 周昊 |
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| 作者单位： | 凯里学院化学系,贵州,凯里,556000;凯里学院化学系,贵州,凯里,556000;凯里学院化学系,贵州,凯里,556000 |
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| 摘 要： | 通过正交试验得到化学镀Co-Ni-P的优化基础配方(g.L-1)和施镀条件:CoSO4.7H2O为16、NiSO4.6H2O为9、NaH2PO2.H2O为30、Na3C6H5O7.2H2O为60、(NH4)2SO4为70,于pH=10、80℃施镀1 h;研究了阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵对Co-Ni-P镀层成分以及镀层与基体结合力的影响。实验结果表明,在优化的基础配方中加入30 mg.L-1的十六烷基三甲基溴化铵,镀液稳定性好,沉积速率加快,镀层表面光亮,镀层与基体的结合力增强,镀层中钴含量增加,镍、磷含量降低,镀层的性能得到了很大的改善。
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| 关 键 词： | 阳离子表面活性剂 化学镀 Co-Ni-P合金 沉积速率 镀层质量 |
| 文章编号： | 1001-1803（2007）04-0219-04 |
| 修稿时间： | 2007-02-14 |
Influence of surfactant CTAB on Co-Ni-P chemical plating |
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| JIANG Tian-zhi,LIU Shao-you,ZHOU Hao.Influence of surfactant CTAB on Co-Ni-P chemical plating[J].China Surfactant Detergent & Cosmetics,2007,37(4):219-222. |
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| Authors: | JIANG Tian-zhi LIU Shao-you ZHOU Hao |
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| Affiliation: | Department of Chemistry of Kaili College, Kaili 556000, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | cationic surfactant chemical plating Co-Ni-P alloy deposition rate quality of plating layer |
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