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| 蚀刻组合物及其用途 | |
| 摘 要： | 申请人 国际商业机器公司 地址 美国纽约州 一种水溶液蚀刻剂组合物 ,含有约 0 0 1～ 1 5ｗｔ%的硫酸和约 0 0 1～ 2 0ｗｔ%的过氧化氢或约 1～ 30ｐｐｍ臭氧 ,以及约 0 0 1～ 1 0 0ｐｐｍ的氢氟酸 ,该组合物可以有效地从基底或导电材料上去除聚合物和通路残留物 ,特别是从其上具有铝接线的集成电路芯片上去除所述的残留物。蚀刻组合物及其用途 |
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