氮氧化硅薄膜制备方法的研究

氮氧化硅薄膜综合了ＳｉＯ２膜和Ｓｉ３Ｎ４膜的优点具有优秀的光电和学性能和稳定性，已经在光电领域获得了广泛地应用，此外在材料改性方面也有广阔的应用前景。本文综全评述了几种氮氧化硅薄膜的制备方法，比较了各自优缺点，并指出了今后制备方法的发展趋势。