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| 脉冲激光沉积溅射工艺对CIGS薄膜成分和结构的影响 | |
| 引用本文： | 何杰,丁铁柱,李丽丽,韩磊.脉冲激光沉积溅射工艺对CIGS薄膜成分和结构的影响[J].真空科学与技术学报,2012(4):347-351. |
| 作者姓名： | 何杰 丁铁柱 李丽丽 韩磊 |
| 作者单位： | 内蒙古大学物理科学与技术学院内蒙古自治区高等学校半导体光伏技术重点实验室 |
| 基金项目： | 内蒙古自然科学重点项目(2010Zd01);内蒙古高等学校自然科学重点项目(NJ09002) |
| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积溅射法在玻璃衬底上制备Cu-In-Ga预制膜,后经硒化、退火处理,得到CIGS薄膜。采用X射线衍射仪表征了薄膜的晶体结构,采用扫描电子显微镜和能量散射谱观察和分析了薄膜的表面形貌和元素成分,采用光电子能谱分析了薄膜表面的化学价态。结果表明,预制膜采用玻璃/In/Cu-Ga的叠层顺序且溅射脉冲数为In靶60000,Cu-Ga靶50000的溅射方式,可制备出沿(112)晶向择优生长的CIGS薄膜。 |
| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 预制膜 CIGS薄膜 硒化 |
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