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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
超薄GaInP/GaInAs/Ge太阳电池研究
作者姓名:
高伟
张宝
薛超
高鹏
王保民
作者单位:
中国电子科技集团公司第十八研究所;
摘 要:
通过特殊的MOCVD技术和器件工艺,应用超薄衬底和对正常衬底的减薄两种方法,成功地制作出了80 mm厚的超薄GaInP/GaInAs/Ge结构的太阳电池。对太阳电池进行了相关的测试,并对实验结果进行了分析和讨论。
关 键 词:
MOCVD技术
器件工艺
GaInP/GaInAs/Ge太阳电池
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