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基于有限元法的激光横向刻蚀路径对片阻阻值影响的研究
作者姓名:王志娟   郑玉彤   闫晓东   汤建华  
作者单位:1. 中央民族大学信息工程学院,北京,100081
2. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130033
基金项目:中央民族大学校科研和校改项目
摘    要:应用激光对片阻阻值进行修调时,垂直于电流方向的横向刻蚀对片阻的阻值影响较大,合理设计横向刻蚀的起刻位置和刻蚀长度能够以较低成本提高激光调阻精度及调阻效率.应用有限元法可得激光横向刻蚀长度和横向起刻位置对片阻阻值影响的定性、定量结论.经实验验证:应用有限元法得到的横向刻蚀路径对阻值影响的定性结论与实验结论一致、定量结论的计算偏差不大于2%,能够为提高调阻精度和调阻效率提供控制依据.

关 键 词:激光调阻  调阻精度  横向刻蚀长度  横向起刻位置  有限元法  有限元法  激光对  刻蚀路径  片阻  影响  研究  Finite Element  Based  Chip  Resistance  Cutting  Laser  控制  计算偏差  实验验证  定量  效率  调阻精度  成本  长度
文章编号:1005-9490(2008)03-0791-04
修稿时间:2007-06-01
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